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光刻機的分類及其優缺點


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小浪云 2024-11-07 175

光刻機分為接觸式和無接觸式兩類。接觸式光刻分辨率高、成本低,但容易損壞掩模;無接觸式光刻避免了掩模損壞,適用于大芯片制造,但分辨率稍低、成本較高。無接觸式光刻又細分有投影式、步進式、掃描式三種類型。選擇光刻機需考慮分辨率、精度、芯片尺寸、成本、可靠性等因素。

光刻機的分類及其優缺點

光刻機的分類

光刻機是半導體制造過程中至關重要的設備,用于將芯片設計轉移到硅片上。根據成像技術,光刻機可分為以下兩類:

接觸式光刻

  • 原理:光掩模直接接觸硅片表面,通過光線照射曝光硅片上的感光劑。
  • 優點:

    • 高分辨率和精度。
    • 成本較低。
  • 缺點:

    • 掩模容易損壞。
    • 接觸導致翹曲和變形。
    • 距離有限,影響大芯片制造。

無接觸式光刻

  • 原理:光掩模與硅片之間有一段距離,通過透鏡將光線聚焦到硅片表面。
  • 優點:

    • 避免了掩模損壞和翹曲。
    • 適用于大芯片制造。
  • 缺點:

    • 分辨率和精度略低于接觸式光刻。
    • 成本更高。

無接觸式光刻的細分

無接觸式光刻又可細分為以下幾種類型:

  • 投影式光刻:光掩模上圖案通過透鏡投影到硅片上。
  • 步進式光刻:光掩模圖案逐塊曝光到硅片上。
  • 掃描式光刻:光束聚焦到掩模和硅片上進行逐點掃描曝光。

選擇光刻機的因素

選擇光刻機的因素包括:

  • 分辨率和精度要求
  • 芯片尺寸
  • 成本
  • 可靠性和效率

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