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光刻機的作用及工作原理


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小浪云 2024-11-07 156

光刻機是將電路圖樣復制到硅片上的設備,用于半導體制造。其工作原理遵循光刻膠成像和蝕刻工藝,包括:涂布光刻膠。掩模對準。曝光。顯影。蝕刻。去膠。

光刻機的作用及工作原理

光刻機的作用

光刻機是用于半導體制造中的關鍵設備,其作用是將設計好的電路圖樣復制到硅片上,為后續的芯片加工步驟奠定基礎。

光刻機的工作原理

光刻機的核心原理遵循光刻膠成像和蝕刻工藝。其工作流程如下:

  1. 涂布光刻膠:在硅片表面均勻涂布一層光刻膠。
  2. 掩模對準:將包含電路圖樣的掩模與硅片精確對齊。
  3. 曝光:將特定波長的紫外光投射到掩模上,通過掩模圖案上的透明區域照射在光刻膠上。
  4. 顯影:將曝光后的光刻膠進行化學顯影,被紫外光照射的部分溶解并被沖走,形成與掩模圖案相對應的抗蝕刻層。
  5. 蝕刻:使用刻蝕劑對裸露的硅片表面進行刻蝕,去除光刻膠未遮擋的部分,從而在硅片上形成預期的電路結構。
  6. 去膠:移除殘留在電路結構上的光刻膠,完成整個光刻工藝。

光刻機的分類

光刻機根據所用光源的不同,主要分為兩種類型:

  • 接觸式光刻機:掩模直接接觸硅片表面進行曝光。
  • 投影式光刻機:掩模與硅片之間存在一定的間隙,紫外光通過透鏡系統投影到硅片上進行曝光。投影式光刻機精度更高,可實現更精細的電路圖案。

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